东至县,硅片上如何刻蚀出孔洞,硅刻蚀 介质刻蚀
硅片上如何刻蚀出孔洞?硅片上刻蚀孔洞的方法有:1、用酸性溶液:将硅片浸入酸性溶液(如硝酸、盐酸等)中,温度一般在60℃~80℃,时间一般在10分钟~20分钟,可以使硅片表面产生腐蚀,形成孔洞2、用电解技术:将硅片放置在电解槽中,加入盐酸或硝酸,在电解槽中放入电极,通过电极施加电流,使硅片表面产生腐蚀,形成孔洞。
3、用激光技术:将硅片放置在激光刻蚀机中,通过激光束对硅片表面进行刻蚀,可以使硅片表面产生腐蚀,形成孔洞。
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